ETNet 新聞 【ＡＩ】北大團隊光刻膠領域新突破，首次引入冷凍電鏡斷層掃描技術 Future Wealths 27 10 月, 2025 One Min Read 4 Views 0 Comments 《經濟通通訊社２７日專訊》近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者 在《自然－通訊》上披露了他們的新發現。該團隊通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態 下解析了光刻膠分子在液相環境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為，指導開發出可顯著減 少光刻缺陷的產業化方案。 光刻是芯片製造中關鍵的步驟之一，通俗地說，光刻就是給半導體晶圓（比如硅片）「印電 路」，核心是用超精密「投 原文 Last Update: 27 10 月, 2025
